07
2022-05
什么是真空离子镀膜
真空离子镀膜技术（简称离子镀）是由美国Sandin公司开发的将真空蒸发和真空溅射结合的一种镀膜技术。离子镀膜过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面的过程。
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07
2022-05
PVD耐磨涂层可镀研究进入百微米级
物理气相沉积（physical vapor deposition, pvd）技术，是一种在真空条件下利用物理过程将材料源转变成原子、分子或等离子体并最终沉积到基体表面上的方法。该技术所镀制的涂层光滑致密且与基体结合良好，所采用的工作温度较低因而基体材料适用范围极广，所产生的环境排放无污染故而属于绿色环保加工技术。特别是采用该技术所镀制的减摩耐磨涂层，不仅具有低摩擦和低磨损的特点，更是具有高硬度、强结合、耐腐蚀等优点，已广泛应用于航空航天、海洋工程、机械制造以及汽车零部件等行业。
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07
2022-05
PVD镀膜设备的使用步骤
1、打开真空控制电源开关。
2、开维持泵对扩散泵抽低真空，并测量前级真空度。
3、待前级压力达到5*100后，开扩散泵加热。
4、开充气阀，对镀膜室充气，打开镀膜室门，装好清洗干净的工件，关好炉门。
5、待扩散泵正常工作一小时后，开机械泵开预抽阀，对真空室手抽真空至1*103，然后开罗茨泵。
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07
2022-05
ITO溅射镀膜
铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ,简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料,已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等,蓄势待发的应用领域为有机发光二极管显示器(Organic Light-Emitting Diode ,简称OLED) 。从应用角度出发,通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ,薄膜中铟锡低价化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制备方法很多,如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展,磁控溅射法备受欢迎。
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