CVD技术具有如下一些特点；①设备的工艺操作较简单、灵活性较强，能制备出配比各异的单一或复合膜层和合金膜层;②CVD法的适用性较广泛，可制备各种金属或金属膜涂层;③因沉积速率可高达每分钟几微米到数百微米，因此生产效率高;④与PVD法相比较绕射性好，非常适宜涂覆形状复杂的基体，如槽沟、涂孔甚至盲孔结构均可镀制成膜;⑤涂层致密性好，由于成膜过程温度较高，膜基界面上的附着力很强，故膜层十分牢固;⑥承受放射线辐射后的损伤较低，能与MOS集成电路工艺相融合。CVD技术的不足，一是沉积温度高，可达800~1100℃。在这样高的温度下工件易于变形，特别是对于那些不耐高温变化的高精度尺寸的工件，其用途会受到一定的限制;二是由于参与沉积的反应物质及反应后的气体大都具有易燃、易爆、有毒或是有一定腐蚀性，因此必须采取一定的防护措施。

真空离子镀膜(简称离子镀)是1963年美国Somdia公司的D.M.Mattox提出的20世纪70年代得到快速发展的一种全新表面处理技术。它是指在真空气氛中利用蒸发源或溅射靶使膜材蒸发或溅射，蒸发或溅射出来的一部分粒子在气体放电空间中电离成金属离子，这些粒子在电场的作用下沉积到基体上生成薄膜的一种过程。 目前，真空离子镀膜的种类很多[1]，通常根据膜材产生的离子来源将其分为两种类型:蒸发源型离子镀和溅射靶型离子镀。前者是通过膜材加热蒸发而产生金属蒸气，使其在气体放电等离子的空间中部分电离成金属蒸气和高能中性原子，通过电场的作用到达基体上生成薄膜;后者则是利用高能离子(如 Ar+)对膜材表面进行轰击使其溅射出来的粒子通过气体放电的空间电离成离子或高能中性原子，达到基体表面上而生成薄膜。各种离子镀的类型如图所示。

一个光学薄膜器件设计完成后，形成的设计结果包括膜系结构、每一层膜层的折射率和厚度。对于制造者而言，只要制造出的每一层膜层的折射率和厚度准确地与设计所要求的值相等制造出的薄膜器件就一定具有所设计的光学性能。因此，与制造有关系的影响薄膜器件光学性能的膜层光学参数是膜层的折射率n和厚度d，统称为光学常数。

(1)DLC薄膜在电磁学领域的应用 随着计算机技术的发展,硬磁盘存储密度越来越高,这要求磁头与磁盘的间隙变小,磁头与磁盘在使用中因频繁接触、碰撞而产生磨损。为了保护磁性介质,要求在磁盘上沉积一层既耐磨又足够薄且不致于影响其存储密度的膜层。用RF-PCVD方法在硬磁盘上沉积了40nm的DLC薄膜,发现有Si 过渡层的膜层与基体结合强度高,具有良好的保护效果,且对硬磁盘的电磁特性无不良影响。 DLC薄膜在电子学上也很有应用前景。采用DLC薄膜作为绝缘层的MIS结构可用于电子领域的许多方面,可用于反应速度快的光敏传感器,也可用于极敏感的电容传感器。另外,DLC薄膜在电学上也是场发射平面显示器冷阴极的极好材料。金双内国 (2)DLC薄膜在光学领域的应用在光学方面,DLC薄膜可用作增透保护膜。Ce是在8~12um范围内通用的窗口和透镜材料,但其容易被划伤和被海水浸蚀。在Ge表面镀一层DLC薄膜,可提高其红外透射率和耐腐蚀性能。但是,一般 DLC薄膜在可见光范围内的透光性较差,限制了它在光电器件上的应用。此外,研究类金刚石薄膜在激光作用下的损伤及损伤机制表明,KC1基片上沉积DLC薄膜后,连续CO,激光损伤闽值可高达7.4kW/cm’。木林据宁简那隆设海明 (3)DLC薄膜在医学领域的应用DLC薄膜在医学上可作为人工心脏瓣膜,而且具有相当好的生物相容性。目前,美国ART公司利用 DLC 薄膜表面能小、不润湿等特点,通过掺人 Si0,网状物并掺人过渡金属元素以调节其导电性,生产出不粘肉的高频手术刀,明显改善了医务人员的工作条件。此外,很多人工关节由聚乙烯的凹槽和金属与合金(钛合金、不锈钢等)的凸球组成。关节的转动部分接触界面会因长期摩擦而产生磨屑,与肌肉结合会使肌肉变质、坏死。DLC薄膜无毒、不受液体浸蚀,镀在人[关节转动部位上的 DLC薄膜不会因摩擦而产生磨屑,更不会与肌肉产生反应,可大幅度延长人工关节的使用寿命。